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产品先容

SACVD 装备系列是我公司自主研发的次常压化学气相沉积(SACVD)装备。。。。。。SACVD反应腔搭载在已通过量产验证的高产能PECVD平台上,,,,充分实现客户对产能的需求。。。。。。该装备主要应用在STI、PMD/ILD等,,,,知足Gap-fill的需求。。。。。。


产品特点
-高质量的TEOS SiO2和BPSG工艺
-可依客户选择设置1-3路液态源,,,,实现多种先进工艺
-可与8英寸兼容相互切换(PF-200T SA)
-可搭载1-3个PM
-通过S2清静认证和F47标准磨练

 
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